Vinkkaa tuotetta kavereillesi:
Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films - Progress in Numerical Simulation for Microelectronics Softcover reprint of the original 1st ed. 1993 edition
Chris R. Kleijn
Hinta
Ft 17.576
Tilattu etävarastosta
Arvioitu toimitus ti - to 22. - 31. heinä
Lisää iMusic-toivelistallesi
Eller
Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films - Progress in Numerical Simulation for Microelectronics Softcover reprint of the original 1st ed. 1993 edition
Chris R. Kleijn
Semiconductor equipment modeling has in recent years become a field of great interest, because it offers the potential to support development and optimization of manufacturing equipment and hence reduce the cost and improve the quality of the reactors.
140 pages, black & white illustrations
| Media | Kirjat Paperback Book (Kirja pehmeillä kansilla ja liimatulla selällä) |
| Julkaisupäivämäärä | keskiviikko 20. marraskuuta 2013 |
| ISBN13 | 9783034877435 |
| Tuottaja | Springer Basel |
| Sivujen määrä | 139 |
| Mitta | 152 × 229 × 7 mm · 195 g |
| Kieli | German |
Katso kaikki joka sisältää Chris R. Kleijn ( Esim. Paperback Book )