Plasma Etching: Fundamentals and Applications - Series on Semiconductor Science and Technology - Sugawara, M. (Professor, Professor, Hachinohe Institute of Technology, Japan) - Kirjat - Oxford University Press - 9780198562870 - torstai 28. toukokuuta 1998
Mikäli Kansi ja otsikko eivät täsmää, on otsikko oikein

Plasma Etching: Fundamentals and Applications - Series on Semiconductor Science and Technology

Hinta
R$ 1.757,69

Tilattu etävarastosta

Arvioitu toimitus ke - pe 10. - 19. joulu
Joululahjoja voi vaihtaa 31.1. asti
Lisää iMusic-toivelistallesi
tai

The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.


356 pages, 2 colour plates, 5 halftones, numerous line figures

Media Kirjat     Hardcover Book   (Sidottu kirja kovilla kansilla sekä suojakannella)
Julkaisupäivämäärä torstai 28. toukokuuta 1998
ISBN13 9780198562870
Tuottaja Oxford University Press
Sivujen määrä 356
Mitta 163 × 242 × 23 mm   ·   743 g
Kieli Englanti