Rapid Thermal Processing for Future Semiconductor Devices - Fukuda, H. (Muroran Institute of Technology, Department of Electrical and Electronic Engineering, Mizumoto-cho, Muroran, Hokkaido, Japan) - Kirjat - Elsevier Science & Technology - 9780444513397 - keskiviikko 2. huhtikuuta 2003
Mikäli Kansi ja otsikko eivät täsmää, on otsikko oikein

Rapid Thermal Processing for Future Semiconductor Devices

Fukuda, H. (Muroran Institute of Technology, Department of Electrical and Electronic Engineering, Mizumoto-cho, Muroran, Hokkaido, Japan)

Hinta
R 3.158,10

Tilattu etävarastosta

Arvioitu toimitus to - ti 17. - 29. loka

Asiakkaamme sanovat:

14 päivän palautusoikeus
Huippuarvosana Trustpilotissa
Lisää iMusic-toivelistallesi

Rapid Thermal Processing for Future Semiconductor Devices

A collection of papers which were presented at the 2001 International Conference on Rapid Thermal Processing (RTP 2001) held at Ise Shima, Mie, on November 14-16, 2001. It covers the following areas such as advanced MOS gate stack, integration technologies, advancd channel engineering including shallow junction, SiGe and hetero-structure.

160 pages

Media Kirjat     Paperback Book   (Kirja pehmeillä kansilla ja liimatulla selällä)
Julkaisupäivämäärä keskiviikko 2. huhtikuuta 2003
ISBN13 9780444513397
Tuottaja Elsevier Science & Technology
Sivujen määrä 160
Mitta 172 × 243 × 17 mm   ·   310 g

Katso kaikki joka sisältää Fukuda, H. (Muroran Institute of Technology, Department of Electrical and Electronic Engineering, Mizumoto-cho, Muroran, Hokkaido, Japan) ( Esim. Paperback Book )