Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes - Emerging Materials and Technologies - Oluwatobi Adeleke - Kirjat - Taylor & Francis Ltd - 9781032386706 - perjantai 15. joulukuuta 2023
Mikäli Kansi ja otsikko eivät täsmää, on otsikko oikein

Oluwatobi Adeleke
Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes - Emerging Materials and Technologies

Hinta
€ 256,49

Tilattu etävarastosta

Arvioitu toimitus ma 13. - 27. heinä

Asiakkaamme sanovat:

14 päivän palautusoikeus
Huippuarvosana Trustpilotissa
Lisää iMusic-toivelistallesi
tai

Ei vielä arvioitu

Löytyy myös muodossa:

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

496 pages, 102 Line drawings, black and white; 24 Halftones, black and white; 126 Illustrations, bla

Media Kirjat     Hardcover Book   (Sidottu kirja kovilla kansilla sekä suojakannella)
Julkaisupäivämäärä perjantai 15. joulukuuta 2023
ISBN13 9781032386706
Tuottaja Taylor & Francis Ltd
Sivujen määrä 354
Mitta 150 × 220 × 20 mm   ·   662 g
Kieli Englanti  

Mere med samme udgiver

Katso kaikki joka sisältää Oluwatobi Adeleke ( Esim. Hardcover Book Ja Paperback Book )