Chemical Vapour Deposition (CVD): Advances, Technology and Applications - Series in Materials Science and Engineering - Choy, Kwang-Leong (University College London, UK) - Kirjat - Taylor & Francis Inc - 9781466597761 - maanantai 25. maaliskuuta 2019
Mikäli Kansi ja otsikko eivät täsmää, on otsikko oikein

Chemical Vapour Deposition (CVD): Advances, Technology and Applications - Series in Materials Science and Engineering 1. Painos

Choy, Kwang-Leong (University College London, UK)

Hinta
€ 238,99

Tilattu etävarastosta

Arvioitu toimitus ma 25. marras - ke 4. joulu

Asiakkaamme sanovat:

14 päivän palautusoikeus
Huippuarvosana Trustpilotissa
Lisää iMusic-toivelistallesi

Chemical Vapour Deposition (CVD): Advances, Technology and Applications - Series in Materials Science and Engineering 1. Painos

This book provides an introduction to the use of Chemical Vapor Deposition (CVD) and its variants for the processing of nanoparticles, nanowires, nanotubes, nanocomposite coatings, thin and thick films, and composites.

408 pages, 41 Tables, black and white; 422 Illustrations, black and white

Media Kirjat     Hardcover Book   (Sidottu kirja kovilla kansilla sekä suojakannella)
Julkaisupäivämäärä maanantai 25. maaliskuuta 2019
ISBN13 9781466597761
Tuottaja Taylor & Francis Inc
Sivujen määrä 398
Mitta 312 × 185 × 24 mm   ·   950 g
Kieli English  
Toimittaja Choy, Kwang-Leong (University of Nottingham, UK)

Katso kaikki joka sisältää Choy, Kwang-Leong (University College London, UK) ( Esim. Hardcover Book )