Hf-Based High-k Dielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability - Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices - Young-Hee Kim - Kirjat - Springer International Publishing AG - 9783031014246 - maanantai 31. joulukuuta 2007
Mikäli Kansi ja otsikko eivät täsmää, on otsikko oikein

Hf-Based High-k Dielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability - Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices


Vastaanota sähköposti kun titteli on saatavilla
Onko sinulla profiili? Kirjaudu sisään
Saat ilmoituksen artistin Young-Hee Kim uusista julkaisuista
Lisää iMusic-toivelistallesi
tai

Ei vielä arvioitu

Hard breakdown and soft breakdown, particularly the Weibull slopes, were studied under constant voltage stress. The origin of soft breakdown (first breakdown) was studied and the results suggested that the soft breakdown may be due to one layer breakdown in the bilayer structure (HfO2/SiO2: 4 nm/4 nm).


92 pages, X, 92 p.

Media Kirjat     Paperback Book   (Kirja pehmeillä kansilla ja liimatulla selällä)
Julkaisupäivämäärä maanantai 31. joulukuuta 2007
ISBN13 9783031014246
Tuottaja Springer International Publishing AG
Sivujen määrä 92
Mitta 234 × 191 × 13 mm   ·   220 g
Kieli Englanti  

Lisää tuotteita Young-Hee Kim

Näytä kaikki

Lisää samalta julkaisijalta