Vinkkaa tuotetta kavereillesi:
Hf-Based High-k Dielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability - Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices Young-Hee Kim
Onko sinulla profiili? Kirjaudu sisään
Saat ilmoituksen artistin Young-Hee Kim uusista julkaisuista
Lisää iMusic-toivelistallesi
tai
Hf-Based High-k Dielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability - Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices
Young-Hee Kim
Hard breakdown and soft breakdown, particularly the Weibull slopes, were studied under constant voltage stress. The origin of soft breakdown (first breakdown) was studied and the results suggested that the soft breakdown may be due to one layer breakdown in the bilayer structure (HfO2/SiO2: 4 nm/4 nm).
92 pages, X, 92 p.
| Media | Kirjat Paperback Book (Kirja pehmeillä kansilla ja liimatulla selällä) |
| Julkaisupäivämäärä | maanantai 31. joulukuuta 2007 |
| ISBN13 | 9783031014246 |
| Tuottaja | Springer International Publishing AG |
| Sivujen määrä | 92 |
| Mitta | 234 × 191 × 13 mm · 220 g |
| Kieli | Englanti |
Lisää tuotteita Young-Hee Kim
Näytä kaikkiLisää samalta julkaisijalta
Katso kaikki joka sisältää Young-Hee Kim ( Esim. Paperback Book )