The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses - Zhiqiang Li - Kirjat - Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm - 9783662496817 - keskiviikko 22. kesäkuuta 2016
Mikäli Kansi ja otsikko eivät täsmää, on otsikko oikein

Zhiqiang Li
The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses 1st ed. 2016 edition

Hinta
€ 52,99

Tilattu etävarastosta

Arvioitu toimitus ke 31. joulu - to 8. tammi 2026
Joululahjoja voi vaihtaa 31.1. asti

Asiakkaamme sanovat:

14 päivän palautusoikeus
Huippuarvosana Trustpilotissa
Lisää iMusic-toivelistallesi
tai

Löytyy myös muodossa:

73 pages, 3 black & white illustrations, 49 colour illustrations, biography

Media Kirjat     Hardcover Book   (Sidottu kirja kovilla kansilla sekä suojakannella)
Julkaisupäivämäärä keskiviikko 22. kesäkuuta 2016
ISBN13 9783662496817
Tuottaja Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm
Sivujen määrä 59
Mitta 155 × 235 × 12 mm   ·   349 g
Kieli Saksa  

Lisää tuotteita Zhiqiang Li

Näytä kaikki

Katso kaikki joka sisältää Zhiqiang Li ( Esim. Hardcover Book Ja Paperback Book )