The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses - Zhiqiang Li - Kirjat - Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm - 9783662570265 - torstai 7. kesäkuuta 2018
Mikäli Kansi ja otsikko eivät täsmää, on otsikko oikein

The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses Softcover reprint of the original 1st ed. 2016 edition

Zhiqiang Li

Lisää iMusic-toivelistallesi

The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses Softcover reprint of the original 1st ed. 2016 edition

59 pages, 49 Illustrations, color; 3 Illustrations, black and white; XIV, 59 p. 52 illus., 49 illus.

Media Kirjat     Paperback Book   (Kirja pehmeillä kansilla ja liimatulla selällä)
Julkaisupäivämäärä torstai 7. kesäkuuta 2018
ISBN13 9783662570265
Tuottaja Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm
Sivujen määrä 59
Mitta 124 g   (Arvioitu paino)

Näytä kaikki

Lisää tuotteita Zhiqiang Li