Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology - Seiji Samukawa - Kirjat - Springer Verlag, Japan - 9784431547945 - maanantai 17. helmikuuta 2014
Mikäli Kansi ja otsikko eivät täsmää, on otsikko oikein

Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology 2014 edition

Seiji Samukawa

Hinta
zł 225,90

Tilattu etävarastosta

Arvioitu toimitus pe - ma 4. - 14. heinä

Asiakkaamme sanovat:

14 päivän palautusoikeus
Huippuarvosana Trustpilotissa
Lisää iMusic-toivelistallesi
Eller

Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology 2014 edition

Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data.

40 pages, 30 Illustrations, color; 5 Illustrations, black and white; VIII, 40 p. 35 illus., 30 illus

Media Kirjat     Paperback Book   (Kirja pehmeillä kansilla ja liimatulla selällä)
Julkaisupäivämäärä maanantai 17. helmikuuta 2014
ISBN13 9784431547945
Tuottaja Springer Verlag, Japan
Sivujen määrä 40
Mitta 155 × 235 × 222 mm   ·   86 g
Kieli English  

Katso kaikki joka sisältää Seiji Samukawa ( Esim. Paperback Book )